Technologie

 

IONIZED JET DEPOSITION

Ionized jet deposition je fyzikální metoda nanášení tenkých vrstev (PVD – Physical vauum deposition) založená na pulsní elektronové ablaci. IJD zařízení, vyvanuté firmou Noivion, využívá speciální pulsní zdroj elektronů schopný ve vakuu generovat ultra-krátké elektrické výboje v MW (ve špičce) Výboje je za pomoci toku plynu směřován na pevný materiál terčíku, kde dojde k povrchové explozi a tím uvolnění materiálu o vysoké energii v podobě plazmy, která má stejné složení jako terčík. Vyzařovaná plasma z terčíku vytváří hustý povlak na objektu před zdrojem IJD. Tento povlak má stejné složení jako materiál terčíku (zachovává složení – poměry) nebo materiál upravený reakcí za pomoci reakčního plynu (takzvaný reakční proces).

 

 

IJD metoda je založená na ionizaci toku plynu, který proudí skrz kovou trysku, která slouží zároveň jako pomocná elektroda při vytváření plasmy. Vysokonapěťový puls, s amlitudou až 25 kV a trváním měně než 1 µs se aplikuje na katodu a pomocí spouštěcího systému pomocných elektrod, vytvoří silně ionizovaný proud plynu, který vytváří ablaci na povrchu terčíku.

 

 VÝHODY

IJD má ojedinělé charakteristiky depozice, které přinášejí zřetelné výhody v mnoha aplikacích.

 

  • ZACHOVÁNÍ SLOŽENÍ                                                                                                                                               

S vhodnými podmínkami IJD dovoluje zachování složení obdobně jako laserové depoziční metody. To znamená že složení materiálu terčíku je přesně přenášené do nanášené vrstvy. Tato vlastnost umožňuje relativně snadnou optimalizaci i při nanášení velmi složitých sloučenin materiálů jako například supravodivých oxidů (YBCO) nebo fotovoltaických polovodičů (CIGS), které takto mohou být nanášeny současně.

 

  • NÍZKOTEPLOTNÍ PROCESY

IJD vrstvy nanášené za příhodných podmínek vykazují dobrou krystalickou kvalitu již během nanášení při pokojové teplotě díky vysoké hustotě plasmy a vybuzení. Toto umožňuje i nanášení materiálů jako jsou plasty nebo polovodičové součástky.

 

  • NEZÁVISLÉ PARAMETRY

IJD nabízí většinu parametrů během procesu nezávislých. To umožňuje velkou variability energií a podmínek použitých během procesu a jejich vzájemné „ladění“ i pro velmi komplexní depoziční procesy.

Hlavní parametry jsou: akcelerační napětí, tlak plynu, vzdálenost terčíku a vzorku, opakovací frekvence pulsů.

 

  • VELKÝ ROZSAH MATERIÁLU                                                                                                                                                

Díky silné interakci elektronů s materiály může IJD pracovat obrazně se všemi pevnými materiály: vodivými, nevodivými, průhlednými, vysoko-pevnostní.

I materiály s vysokým bodem tání a velmi tvrdé oxidy je možné nanášet s vysokou kontrolovatelností a reprodukovatelností.

 

  • KONKURENCESCHOPNÉ NÁKLADY                                                                                                                                                                  

IJD zařízení nabízí větší výkon a flexibilitu za zlomek ceny laserového depozičního zařízení. Možnost použití malých terčíků (disky o průměru 10 – 30 mm)  pro nanášení vrstev i na velké objekty nabízí možnost optimalizace nákladů a možnost nanášet i vrstvy ze vzácných a drahých materiálů.

 

  • INDUSTRIALIZACE                                                                                                                                                                             

Kvalitní povrchy, robustnost, nízké náklady a vysoká produktivita depozice dělají z IJD zajímavou možnost i pro průmyslové využití.

 

Pro více informací a aktuální články o IJD můžete navštívit stránky výrobce: (Noivion web presentation).

JSN Teki template designed by JoomlaShine.com